楊森平他們在國產(chǎn)光刻機上的研究，是從最初的毫米工藝向微米發(fā)展，在到如今的納米級。
但卻始終被海外的技術(shù)遠(yuǎn)遠(yuǎn)甩在后面。
現(xiàn)在華科院哪怕取得了重大技術(shù)突破，也僅是才達(dá)到28納米水平。
距離海外的5納米芯片相差甚遠(yuǎn)。
畢竟芯片的制造規(guī)格每提升一個小層次，研發(fā)難度都是呈數(shù)倍增加，如果依舊按照原來的方式攻克技術(shù)，恐怕等國產(chǎn)光刻機能生產(chǎn)14納米或者7納米芯片的時候，人...
千越南秋
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