第438章 光刻機項目：另辟蹊徑

　　沐陽研究更新后的閱讀系統(tǒng)兩個多小時才研究透，興奮得睡不著。

　　喝了一杯茶，他想看看芯片制造技術的核心設備：光刻機。

　　目前市場上，有兩種主流光刻機，一個是DUV光刻機，另一個是EUV光刻機。

　　DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithography）。

　　從制...